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四甲基二硅氧烷的簡介

更新時(shí)間:2023-11-14      點(diǎn)擊次數(shù):820

四甲基二硅氧烷,最近被證明在將半縮減為相應(yīng)的方面非常有用。這已應(yīng)用于成功合成具有重要藥學(xué)意義的格列凈家族糖尿病 2 特異性葡萄糖轉(zhuǎn)運(yùn) 2 (SGLT2) 抑制劑藥物,例如卡格列凈 (Invokana) 和達(dá)格列凈 (Farxiga) 等。6TMDS也被證明可以非常有效地將硝基芳基還原為苯胺7在生產(chǎn)齊拉西酮的關(guān)鍵中間體時(shí),在將酮還原為亞甲基方面,是對三乙基硅烷的改進(jìn)。


其他屬性水解敏感與水性堿發(fā)生反應(yīng)。


應(yīng)用

用于醛類和環(huán)氧化物的還原鹵化反應(yīng)。
2.用于將二茂鐵硅烷、聚烯烴嵌段共聚物連接成穩(wěn)定的圓柱形。
3.用于在其他可還原基團(tuán)存在下將酰胺高產(chǎn)率還原為胺。
4.將苯甲醚還原為芳烴。
5.氫化硅烷化末端炔烴形成能夠與芳基和乙烯基鹵化物交叉偶聯(lián)的烯基硅烷。
6.用于在合成齊拉西酮時(shí)將苯乙酮衍生物還原為亞甲基。

 

烯基硅烷交聯(lián)劑:

交叉偶聯(lián)反應(yīng)是形成碳-碳鍵的一種非常有用的方法。它涉及兩種試劑,一種通常是合適的有機(jī)金屬試劑(親核試劑),另一種是合適的有機(jī)底物,通常是不飽和鹵化物、甲苯磺酸鹽或類似物(親電試劑)。

 

ALD材料:

原子層沉積 ALD) 是一種化學(xué)自限性沉積技術(shù),它基于連續(xù)使用氣態(tài)化學(xué)過程。薄膜(每個(gè)周期細(xì)至 -0.1 ?)是通過根據(jù)需要多次重復(fù)沉積序列以達(dá)到一定厚度而產(chǎn)生的。薄膜的主要特點(diǎn)是產(chǎn)生的保形性和可控的沉積方式。前驅(qū)體的選擇是原子層沉積工藝的關(guān)鍵,即找到具有足夠反應(yīng)性以產(chǎn)生所需薄膜的分子,同時(shí)又足夠穩(wěn)定以處理并安全地輸送到反應(yīng)室。

 

硅氧烷基硅烷還原劑:

有機(jī)硅烷是類碳?xì)浠衔铮哂凶鳛殡x子和自由基還原劑的能力。與許多其他還原劑相比,這些試劑及其反應(yīng)副產(chǎn)物更安全,更易于處理和處置。與鋁基、硼基和其他金屬基氫化物相比,硅的金屬性質(zhì)及其相對于氫的低電負(fù)性導(dǎo)致 Si-H 鍵極化,產(chǎn)生氫化氫和更溫和的還原劑。硅基還原劑手冊的表1總結(jié)了一些關(guān)鍵的硅烷還原。

 

1,1,3,3-四甲基二硅氧烷;1,1-二氫-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷;TMDO;TMDS頜骨:

      1.粘度,20 °C: 0.56 cSt

      2.ΔH梳: 4,383 千焦/摩爾

      3.ΔH醫(yī) 管 局。: 30.3 kJ/摩爾

      4.蒸氣壓,27 °C: 194.8 mm

      5.將芳香醛還原為鹵化芐

      6.用于醛類和環(huán)氧化物的還原鹵化反應(yīng)

      7.用于將二茂鐵硅烷、聚烯烴嵌段共聚物連接成穩(wěn)定的圓柱形

      8.用于氫化物封端有機(jī)硅聚合的封端機(jī)

      9.有機(jī)還原劑

      10.用于在其他可還原基團(tuán)存在下將酰胺高產(chǎn)率還原為胺

      11.將苯甲醚還原為芳烴

      12.氫化硅烷化末端炔烴,形成能夠與芳基和乙烯基鹵化物交叉偶聯(lián)的烯基硅烷

 

 


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